Nano-Electro-Mechanical Systems Lab(奈微米系統實驗室)

實驗室介紹

實驗室相片

"NEMS共同實驗室座落於元智大學三館如圖一及二所示。為了使每台儀器發揮最大功效,本實驗室採集中式管理方式,有效提高設備運用及技術資源,避免重覆投資設備及浪費資源。本實驗室提供校內、外之製程技術共通平台,以建立資源共享亦共管。透過此平台快速整合校內、外教授專長並建構具特色及競爭力之研究團隊。本實驗室主要設備有表面輪廓儀、銲線機、光阻塗佈機、磁控濺鍍機、電子束蒸鍍機及雙面對準曝光機等作為奈微米製程使用。

Nano1Nano2

 


 

設備介紹

設備相片

表面輪廓儀

以探針接觸試片並掃描回饋信號以繪出物體表面形貌、粗糙度或是弧度。

Nano3

銲線機

極細的金屬線(線徑為18~50μm),將晶粒上的接點與導線架的內引腳連接起來,藉而將IC晶粒的電路訊號傳輸到外界。

Nano4

光阻塗佈機

主要是用來作光阻的塗佈。數位操作面板,可輕易的設定轉速、加速度及時間 。

Nano5

磁控濺鍍機

使用電漿對靶材進行離子轟擊,將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子型式發射出來,並到達所要沉積的基板上,再經過附著、吸附、表面遷徙、成核等過程之後,在基板上成長形成薄膜。

Nano6

電子束蒸鍍機

藉著對被蒸鍍物體加熱,利用被蒸鍍物在高溫(接近其熔點)時所具備的飽和蒸氣壓,來進行薄膜的沉積。多功能蒸鍍機,舉凡Al、Cr、Au、Ti、Ni、Ta、Pt、SiO2等都可以使用於此系統。

Nano7

雙面對準曝光機

光罩圖形轉移之曝光機。

Nano8